文/淺談專(zhuān)利撰寫(xiě)的清楚性及完整性 董立閩

在專(zhuān)利申請過(guò)程中，申請文件的撰寫(xiě)質(zhì)量不僅會(huì )影響到保護范圍、是否能得到授權，還會(huì )影響到其未來(lái)權利的穩定性。所謂申請文件的撰寫(xiě)質(zhì)量高，是指該申請文件不但能夠達到申請專(zhuān)利的基本目的，即，使專(zhuān)利成為有效打擊競爭對手和防護自己的武器，以達到增強市場(chǎng)競爭的實(shí)力等商業(yè)目的，還能夠有效阻止在后專(zhuān)利的成立或阻止在后專(zhuān)利所支持的產(chǎn)品或技術(shù)與自己進(jìn)行市場(chǎng)搶奪。然而，盡管申請人希望得到高質(zhì)量的申請文件，但在代理實(shí)踐中經(jīng)常發(fā)現由于撰寫(xiě)者的技術(shù)經(jīng)驗或法律經(jīng)驗等的不足而導致申請文件存在一些缺陷，而其中的某些缺陷會(huì )影響到申請人獲得權利或實(shí)施權利。

例如，目前國內撰寫(xiě)的申請文件在對技術(shù)方案進(jìn)行論述時(shí)普遍存在清楚性及完整性不夠的缺陷。但在申請文件的撰寫(xiě)中，對技術(shù)方案清楚、完整的論述是最基本的要求，也是必須嚴加重視的要求之一。

專(zhuān)利法第二十六條第三款中明確規定，“說(shuō)明書(shū)應當對發(fā)明或實(shí)用新型作出清楚、完整的說(shuō)明”。

根據專(zhuān)利法實(shí)施細則第六十四條的規定，說(shuō)明書(shū)不滿(mǎn)足專(zhuān)利法第二十六條第三款中有關(guān)說(shuō)明書(shū)的清楚、完整的規定可以作為申請專(zhuān)利無(wú)效的理由，表明如果申請文件中存在此類(lèi)缺陷，即使當時(shí)授權了，該缺陷也會(huì )是影響該申請文件未來(lái)權利穩定性的因素之一。

另外，專(zhuān)利法第三十三條規定，“對發(fā)明和實(shí)用新型專(zhuān)利申請文件的修改不得超出原說(shuō)明書(shū)和權利要求書(shū)記載的范圍”，因此，如果提交的申請文件在清楚性及完整性上出現問(wèn)題，則通常是無(wú)法彌補的，撰寫(xiě)人必須確保提交時(shí)的申請文件已對技術(shù)方案進(jìn)行了清楚、完整的論述。

那么，申請文件撰寫(xiě)到什么程度才算是清楚、完整呢？專(zhuān)利法第二十六條給出了認定的標準“以所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠實(shí)現為準”。審查指南第二部分第二章也針對何為清楚、何為完整、何為能夠實(shí)現進(jìn)行了具體的規定。

以半導體制造領(lǐng)域的專(zhuān)利申請文件為例，通常滿(mǎn)足撰寫(xiě)的清楚、完整性要求的申請文件會(huì )對技術(shù)方案中涉及到的各步工藝都給出清楚、詳細的描述，包括：從功能、原理上對各步工藝的相關(guān)基本知識進(jìn)行解釋?zhuān)粚ι婕暗降母鱾€(gè)工藝步驟，無(wú)論是否與發(fā)明點(diǎn)相關(guān)，均列出詳細的參數列表；以及，對于各個(gè)工藝步驟中存在的可能的替代方案進(jìn)行適當的闡述。

這樣寫(xiě)的好處是顯而易見(jiàn)的：一則，技術(shù)方案的論述非常清楚、完整，所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員依據說(shuō)明書(shū)中的內容，能夠在不付出創(chuàng )造性勞動(dòng)的基礎上輕易實(shí)現；二則，便于理解，減少歧義。其對技術(shù)方案的論述可以詳細到令一個(gè)對微電子專(zhuān)業(yè)不太了解的人（如法官）也可以從申請文件中找到較多的、利于其理解該技術(shù)方案的內容，減少了對該技術(shù)方案理解的難度，這對于獲得權利及維護權利都很有好處。

然而，目前國內撰寫(xiě)的申請文件中，即使是由專(zhuān)利代理人撰寫(xiě)的申請文件，由于多種原因的存在，還是經(jīng)常會(huì )出現撰寫(xiě)不夠清楚或不夠完整的問(wèn)題，從申請人的角度考慮，主要有以下幾種情況存在：

（1）由于申請人未理解專(zhuān)利申請文件清楚、完整的重要性，怠于為專(zhuān)利代理人提供足夠的技術(shù)資料；

（2）申請人出于保密的考慮，將技術(shù)方案中的部分內容隱瞞起來(lái)，僅提供一個(gè)大致的想法，導致在申請文件中公開(kāi)的技術(shù)方案不能由所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員實(shí)現，不滿(mǎn)足專(zhuān)利申請中有關(guān)清楚、完整的要求；

（3）由于申請人對自己使用的技術(shù)相當地熟悉，將技術(shù)方案中涉及到的大部分信息都當作現有技術(shù)，認為不需要進(jìn)行詳細介紹。

對于第一種情況，專(zhuān)利代理人應該對申請人闡明清楚、完整對一篇專(zhuān)利申請文件的重要性，說(shuō)服發(fā)明人提供足夠的技術(shù)資料。

對于第二種情況，可以具體分析，如果隱瞞申請人希望保密的內容僅會(huì )使效果不是最佳，但仍可以令申請文件具有專(zhuān)利的三性――實(shí)用性、新穎性及創(chuàng )造性，且所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員也能依據文件中的描述而實(shí)現，那么專(zhuān)利代理人在撰寫(xiě)申請文件時(shí)可以對技術(shù)方案的該部分作保密處理。反之，如果不能滿(mǎn)足上述要求，則專(zhuān)利代理人需要說(shuō)服申請人公開(kāi)該部分內容或放棄該專(zhuān)利申請。

例如，一項申請的發(fā)明點(diǎn)本身在于工藝中采用了一種新的氣體，提高了形成的材料的性能，但申請人卻將該新的氣體作為保密內容不愿意透露該氣體的具體名稱(chēng)。此時(shí)，專(zhuān)利代理人可以與申請人進(jìn)一步交流，詢(xún)問(wèn)是該新的氣體的哪種特性在提高材料性能方面起到了主要的作用，是否能由某一類(lèi)氣體實(shí)現。

A、如果能（雖然可能存在性能提高有限或成本較高等缺點(diǎn)），則可以在申請文件中僅提出該類(lèi)氣體，并舉出非最佳的幾種氣體（最佳氣體可以進(jìn)行保密），這樣，既可以滿(mǎn)足專(zhuān)利的三性要求及所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠實(shí)現的要求，又可以按申請人的要求實(shí)現對關(guān)鍵內容的保密。但需要告知申請人，如果此后競爭對手申請了對該最佳氣體的專(zhuān)利保護，則可能會(huì )令申請人自己陷入被動(dòng)之中：不但不能限制對手使用該最佳氣體，還可能因對方所擁有的專(zhuān)利權而受到限制。

B、如果該材料性能的改進(jìn)只能由一種特定的氣體實(shí)現，則專(zhuān)利代理人應該進(jìn)一步與申請人溝通，闡明為滿(mǎn)足專(zhuān)利的三性要求及所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠實(shí)現的要求，必須在申請文件中指出該特定氣體。若申請人仍堅持不公開(kāi)該特定氣體，則最好建議申請人放棄對該技術(shù)方案的專(zhuān)利申請，而將該技術(shù)方案按商業(yè)秘密等其它方式進(jìn)行保護。因為，此時(shí)即使申請了對該技術(shù)方案的專(zhuān)利保護，但因其申請文件中公開(kāi)的內容不足以解決技術(shù)問(wèn)題（提高材料性能），或所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員不能夠依據申請文件中的內容實(shí)現，該申請文件仍不能滿(mǎn)足專(zhuān)利法對申請文件清楚、完整的要求。一方面該申請文件難以獲得授權，另一方面即使獲得了獲權，其未來(lái)的權利也不夠穩定，易被競爭對手無(wú)效掉，難以真正實(shí)現對技術(shù)方案的保護，反而可能在公開(kāi)申請文件后給競爭對手以技術(shù)啟示。

對于第三種情況，專(zhuān)利代理人應該與申請人進(jìn)一步溝通，說(shuō)明應站在所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員的角度對技術(shù)方案進(jìn)行闡述，一些申請人認為簡(jiǎn)單的情況，其實(shí)在本領(lǐng)域中仍存在多種其它可能的實(shí)現方法，只是申請人未采用或不適用于該技術(shù)方案而已，如果不具體說(shuō)明技術(shù)方案中相關(guān)的內容，可能會(huì )導致所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員無(wú)法根據申請文件的內容實(shí)現該技術(shù)方案，從而導致申請文件具有不完整或不清楚的缺陷。

此外，還要注意到撰寫(xiě)時(shí)確保申請文件具有清楚、完整性并不意味著(zhù)要對技術(shù)方案各個(gè)方面的各個(gè)細節都做出詳細論述，還是應該有個(gè)度，否則可能會(huì )出現過(guò)猶不及的問(wèn)題。

筆者認為，對技術(shù)方案的發(fā)明點(diǎn)應進(jìn)行盡可能詳細、全面的論述；對可能影響該技術(shù)方案能否實(shí)現的相關(guān)內容也要做出具體的描述；但是，對于與技術(shù)方案能否實(shí)現關(guān)系不大、且可以采用多種方法中的任一種實(shí)現的內容，則可以略寫(xiě)。如可以將其作為現有技術(shù)，僅提到在技術(shù)方案中也可以適用什么方法或什么結構即可。

例如，一個(gè)技術(shù)方案的發(fā)明點(diǎn)在于對沉積工藝的工藝條件進(jìn)行改進(jìn)，以得到更為均勻的薄膜。此時(shí)，圍繞該沉積工藝要進(jìn)行盡可能詳細、全面的描述：如，說(shuō)明本技術(shù)方案中所用的沉積設備的結構、原理等，沉積薄膜時(shí)所用的各種反應氣體、載氣體等；列出沉積時(shí)所選用的各工藝條件（如溫度、氣壓、功率等）及原因，沉積過(guò)程中各工藝條件的改變對薄膜沉積質(zhì)量的影響等等。

其中，由于該技術(shù)方案的發(fā)明點(diǎn)在于沉積工藝條件的改進(jìn)，除了對改進(jìn)了的工藝條件要進(jìn)行格外詳細的論述外，還可以進(jìn)一步分析為何要對該工藝條件進(jìn)行改進(jìn)，該改進(jìn)的原理、趨勢，以及該改進(jìn)可以帶來(lái)的各種好處等等，最好還要列出改進(jìn)前、后的效果對比數據。

不過(guò)，對于該技術(shù)方案中在沉積時(shí)所用的襯底的相關(guān)知識的描述是否也用具體到如此程度呢？沉積中所用的襯底也是在描寫(xiě)該技術(shù)方案時(shí)必不可少地要引入的內容，對它的描述是否也要象描述沉積工藝一樣，從結構、原理等基本的相關(guān)知識開(kāi)始介紹？如，如何利用拉晶等方式形成襯底，其的結構有什么特點(diǎn)（如其晶向等），它在沉積前可能已形成的內部結構具體是如何形成的等等。

筆者認為如果上述問(wèn)題對本發(fā)明的技術(shù)方案能否實(shí)現關(guān)系不大，對其的介紹是不需要具體到如此程度的?？梢詫⑵湟暈楣ＷR，只提到本技術(shù)方案夠用的信息量（如本技術(shù)方案中可以適用的襯底，及襯底上可以具有的結構等），其余的不用寫(xiě)太多。如果對于這一類(lèi)的知識點(diǎn)也進(jìn)行如發(fā)明點(diǎn)般具體詳細的介紹，一方面會(huì )降低撰寫(xiě)的效率；另一方面對審查員或法官理解技術(shù)方案本身的幫助并不大，反而可能會(huì )導致發(fā)明點(diǎn)不突出，需要在幾十頁(yè)的文件中去尋找技術(shù)方案中真正有關(guān)創(chuàng )新的地方。

總之，在撰寫(xiě)專(zhuān)利申請文件時(shí)，務(wù)必要重視所描述的技術(shù)方案的清楚性及完整性，并注意對其詳細程度的把握，只有滿(mǎn)足了這一點(diǎn)的專(zhuān)利申請文件才可能算是合格的申請文件，也只有在實(shí)現了這一點(diǎn)的前提下才有可能撰寫(xiě)出真正高質(zhì)量的申請文件。