近期,智利政府公布了商標、專利等相關(guān)法律的改法決定,與專利相關(guān)的改法內(nèi)容如下:
1.改法后,專利著錄項變更官費須在提交轉(zhuǎn)讓記錄請求時一并繳納,專利局有權(quán)要求申請人進一步提供相關(guān)文件;
2.有關(guān)支付專利維持費的新規(guī)定;
3.將工業(yè)外觀設(shè)計的保護期延長至 15 年;
4.工業(yè)外觀設(shè)計提交時可選擇無需實質(zhì)審查的自動注冊程序,但未經(jīng)實審的外觀設(shè)計不能提起侵權(quán)訴訟;
5.由于行政拖延造成的審查周期過長,申請人請求專利補充保護期限的時間自專利授權(quán)日起的6個月改為60天(工作日);
6.PCT進入智利國家階段權(quán)利恢復(fù)截止日期的變化;
7.增加超頁費(超過80頁,每增加20頁加收88美元)及延遲繳納申請官費(改法后,專利申請費應(yīng)在提交申請時或自申請日起30個工作日內(nèi)繳納,逾期不繳納視為放棄)的規(guī)定;
8.增加臨時申請類型。